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PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī),可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵
PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī),可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵
PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵,清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物,清洗程度可達(dá)到分子級。另外,其樣品臺可選配加熱功能,可加負(fù)偏壓,用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外,其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下,去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進(jìn)行預(yù)處理,對生長具有顯著的作用 。
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī),等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體,采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時也可改變物體表面的性質(zhì)(如親水和疏水性等)。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實驗幫手。
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