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GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設(shè)有4個蒸鍍加熱舟,且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實現(xiàn)對有機材料的蒸發(fā)鍍膜,可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求,是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設(shè)備。
OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD,爐管內(nèi)載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口,儀表內(nèi)配有控溫軟件,可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計針對于熱蒸發(fā)或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達(dá)到5“x5“,并且頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn),提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池,
GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀,內(nèi)部設(shè)有4個蒸發(fā)坩堝,且每個蒸發(fā)坩堝都帶有擋板,多可放置4種不同的蒸發(fā)物料,可在同一氣氛下依次鍍膜,實現(xiàn)多層膜的沉積工藝??沙绦蚩販?,控溫范圍200-1500℃(選用B型熱電偶:1200℃-1700℃),大可蒸鍍直徑2英寸薄膜樣品,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
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