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應用范圍： MSK-PSE-EC1515六源真空蒸鍍儀配備3組有機束源式蒸發(fā)源爐+3組舟式蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機材料如：Cu、Ag、C60、NPB、TPBi等材料；設備可與手套箱對接方便在手套箱中操作，采用前滑動開門結(jié)構(gòu)。設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。

應用范圍：PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段，特別適合清除一些有機化合物，紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>

--小型等離子清洗機 應用范圍：PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

應用范圍： MSK-PSC-SDM3030狹縫擠出式大理石平板涂布機是一款應用于片狀基材表面涂覆的設備，采用狹縫擠壓方式進行涂覆。該設備主要由擠壓模具、涂覆平臺、供料系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。本設備主要用于平板顯示，OLED，太陽能光電膜和聚合物導電膜、晶圓等領域的片式基材的表面涂覆。適合實驗室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索與中試試制。

應用范圍：MSK-PSC-MM2020狹縫擠出式平板涂布機是一款應用于針對片狀基材進行精密薄膜涂布的設備，采用狹縫擠出涂布方式，可完成對剛性基材（如玻璃）和柔性基材（如PET膜）涂覆工藝。設備主要由擠壓模具、涂布平臺、供料系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。該設備主要用于燃料電池、鈣鈦礦太陽能光電膜、OLED等領域的片式基材的表面涂覆。